等離子增強型化學氣相淀積（PECVD）是化學氣相淀積的一種，其特點是在低溫下利用等離子體的激活作用來增強化學氣相沉積反應。這種方法的優點是沉積溫度低，沉積速率快，而且制得的薄膜具有優良的電學性能、良好的襯底附著性以及**的臺階覆蓋性。 

PECVD氣相沉積應用領域：

等離子增強CVD系統可以用于：石墨烯制備、硫化物制備、納米材料制備等多種試驗場所。可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜，并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于刀具、高精模具、硬質涂層、**裝飾等領域，PECVD氣相沉積在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用.

技術參數：

產品名稱	PECVD氣相沉積
產品型號	CY-PECVD-500T-SS
腔體尺寸	φ500
溫區長度	200
射頻電源	500W-
溫度	1000℃-
前級泵	分子泵組
顯示類型	T
溫區	I-
水冷機	CW5200
腔體材質	SS
樣品加熱加熱溫度	RT-1000℃以上，溫控精度：±1°C，采用控溫表進行控溫； 可調轉速：1-20rpm可調
噴淋頭尺寸	Φ90mm，噴淋頭與樣品之間電極間距40-100mm在線連續可調（可根據工藝調整），并帶有標尺指數顯示
樣品臺	直徑200mm
沉積工作真空	0.133-133Pa（可根據工藝調整）
頂部法蘭	可通過馬達提升，基板更換方便，有可視口
基板臺	基板臺的線性和方位角運動，基板加熱和溫度控制，安裝臺和觸摸屏控制，基板線性運動是手動控制的，基板旋轉是由直流電動機控制的
真空腔體	前開門式，φ500mm X 500mm 不銹鋼材質
觀察窗	φ100mm 帶擋板
質量流量計	六路質量流量計
氣路數量	六路
承壓范圍	-0.15Mpa~0.15Mpa
量程	0~100 SCCM（氧氣） 0~100 SCCM（CF4） 0~200 SCCM （SF6） 0~200 SCCM （氬氣） 0~500 SCCM （其他氣體空氣） 0-500sccm （其他氣體氮氣）
流量控制范圍	±1.5%
氣路材料	304不銹鋼
管道接口	6.35mm卡套接頭
真空系統	前級泵：無油真空泵4.7L/S 分子泵：1200L/S
測量范圍	1×10-5～1×105Pa
測量精度	1×10-5～1×10-4Pa ±40%的讀數 1×10-4～1×105Pa ±20%的讀數